The objective of this project is to achieve high surface area silicon nanostructures for next generations of active and passive components with high integration density. The proposed route for the realization of nanostructures is to use masks based on inexpensive homopolymer mixtures and to transfer nanopatterns to silicon by plasma cryogravure.
Thèse : 1
Publication scientifique : 27
Procédé : 6
Rapport final : 3
Emplois crées : 6
Thèse : 2
Début du projet le 11 / 05 / 2021 | Fin du projet le 11 / 05 / 2021
Domaines d'activité stratégiques
Matériaux et composants pour l'électronique
