SUSCRYPP

Achevé

L'objectif de ce projet consiste à réaliser des nanostructures de silicium de surface spécifique élevée pour les prochaines générations de composants actifs et passifs à forte densité d'intégration. La voie proposée pour la réalisation des nanostructures est d'utiliser des masques à base de mélanges d'homopolymère peu couteux et de transférer les nanomotifs sur silicium par cryogravure plasma.

Retombées du projet

Thèse : 1

Publication scientifique : 27

Procédé : 6

Rapport final : 3

Emplois crées : 6

Thèse : 2

Personnes engagées sur le projet

Porteur du projet

Partenaire(s) adhérents

Informations sur le projet

Début du projet le 17 / 04 / 2024 | Fin du projet le 17 / 04 / 2024


Domaines d'activité stratégiques

Électronique : matériaux, composants et sous-systèmes


Référent du projet

Sébastien DESPLOBAIN
Chargé de projets innovants

07 86 53 38 74

sebastien.desplobain@s2e2.fr

Centre-Val de Loire

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