Ce projet consiste à réaliser un module d'anodisation afin de traiter des plaquettes de silicium de 300 mm de diamètre. L'anodisation de plaquette jusqu'à 200 mm est connue et notamment maitrisée par SILiMiXT. En revanche, l'anodisation de plaquette 300 mm n'a jamais été rapportée dans la littérature. Le marché à venir sur la RF/5G impose ce dimensionnel. Le principe physique pour traiter des plaques 300 mm est similaire aux plaques de 200 mm. Cependant, il est nécessaire de concevoir un module d'anodisation n'existant pas sur le marché. Ce développement nécessite la mise en œuvre de nouveaux matériels et l'augmentation de la surface à traiter, d'un facteur 2, engendre des problématiques de fabrication importantes (manipulation, distances électrodes,...). Ce projet consistera à résoudre ces problématiques. De plus, afin d'être compatible avec les composants liés à la RF/5G, la fabrication du silicium poreux est soumise à un verrou technologique. Afin d'assurer une qualité industrielle, le type de silicium qui doit être utilisé pour ces composants doit subir une étape appelée ""dopage"" avant d'être porosifié. Or cette étape est rédhibitoire pour l'application finale. Ce projet consistera également à lever ce verrou par la mise en œuvre d'un système d’éclairage à base de LED infrarouges compatible avec des diamètres de 200 mm puis 300 mm. La preuve de concept a déjà été réalisée par SILiMiXT sur échantillons. Ce dispositif d’éclairage pourra générer de la propriété intellectuelle. Ces deux preuves de faisabilité réalisées serviront de faire valoir à la commande, par un ETI de la microélectronique, client de SiLiMiXT, d’un équipement de production dont le montant est évalué autour du million d’euros.
Produit / Prototype : 1
Rapport final : 1
Brevet : 1
Produit / Prototype : 1
Début du projet le 13 / 10 / 2024 | Fin du projet le 13 / 10 / 2024
Domaines d'activité stratégiques
Électronique : matériaux, composants et sous-systèmes
Référent du projet
Daniel MELEY
07 86 53 38 70
daniel.meley@s2e2.fr
Centre-Val de Loire
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