Dans le contexte de la nanolithographie, produire des motifs ordonnés inférieurs à 10 nm avec une faible densité de défauts à grande échelle (généralement cm), compatibles avec les attentes de l'industrie, reste un défi non relevé. L'objectif du projet est de produire à grande échelle des nanomotifs inférieurs à 10 nm avec une faible densité de défauts par une méthode d'auto-assemblage robuste. Pour y parvenir, le concept proposé est d'abord de pré-assembler en solution des polymères convenablement fonctionnalisés en nanotiges de Janus rigides et à rapport d'aspect élevé.
Il n'y a pas de retombées pour ce projet pour le moment
Porteur du projet
Partenaire(s) non adhérents
LABORATOIRE IMMM
INSTITUT PARISIEN DE CHIMIE MOLÉCULAIRE (IPCM)
Début du projet le 25 / 04 / 2024
Domaines d'activité stratégiques
Électronique : matériaux, composants et sous-systèmes
Référent du projet
Florentin BORÉ
06 66 39 55 43
florentin.bore@s2e2.fr
Centre-Val de Loire
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