JA-SUR

Accepté

Dans le contexte de la nanolithographie, produire des motifs ordonnés inférieurs à 10 nm avec une faible densité de défauts à grande échelle (généralement cm), compatibles avec les attentes de l'industrie, reste un défi non relevé. L'objectif du projet est de produire à grande échelle des nanomotifs inférieurs à 10 nm avec une faible densité de défauts par une méthode d'auto-assemblage robuste. Pour y parvenir, le concept proposé est d'abord de pré-assembler en solution des polymères convenablement fonctionnalisés en nanotiges de Janus rigides et à rapport d'aspect élevé.

Retombées du projet

Il n'y a pas de retombées pour ce projet pour le moment

Personnes engagées sur le projet

Porteur du projet

Partenaire(s) non adhérents

INSTITUT PARISIEN DE CHIMIE MOLÉCULAIRE (IPCM)

LABORATOIRE IMMM

Domaines d'activité stratégiques

Matériaux et composants pour l'électronique


Référent du projet

Florentin BORÉ
Chargé de projets innovants

06 66 39 55 43

florentin.bore-ext@st.com

Centre-Val de Loire

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