SIP300MM

Accepté

Ce projet consiste à réaliser un module d'anodisation afin de traiter des plaquettes de silicium de 300 mm de diamètre. L'anodisation de plaquette jusqu'à 200 mm est connue et notamment maitrisée par SILiMiXT. En revanche, l'anodisation de plaquette 300 mm n'a jamais été rapportée dans la littérature. Le marché à venir sur la RF/5G impose ce dimensionnel. Le principe physique pour traiter des plaques 300 mm est similaire aux plaques de 200 mm. Cependant, il est nécessaire de concevoir un module d'anodisation n'existant pas sur le marché. Ce développement nécessite la mise en œuvre de nouveaux matériels et l'augmentation de la surface à traiter, d'un facteur 2, engendre des problématiques de fabrication importantes (manipulation, distances électrodes,...). Ce projet consistera à résoudre ces problématiques. De plus, afin d'être compatible avec les composants liés à la RF/5G, la fabrication du silicium poreux est soumise à un verrou technologique. Afin d'assurer une qualité industrielle, le type de silicium qui doit être utilisé pour ces composants doit subir une étape appelée ""dopage"" avant d'être porosifié. Or cette étape est rédhibitoire pour l'application finale. Ce projet consistera également à lever ce verrou par la mise en œuvre d'un système d’éclairage à base de LED infrarouges compatible avec des diamètres de 200 mm puis 300 mm. La preuve de concept a déjà été réalisée par SILiMiXT sur échantillons. Ce dispositif d’éclairage pourra générer de la propriété intellectuelle. Ces deux preuves de faisabilité réalisées serviront de faire valoir à la commande, par un ETI de la microélectronique, client de SiLiMiXT, d’un équipement de production dont le montant est évalué autour du million d’euros.

Retombées du projet

Il n'y a pas de retombées pour ce projet pour le moment

Personnes engagées sur le projet

Porteur du projet

Domaines d'activité stratégiques

Matériaux et composants pour l'électronique


Référent du projet

Nicolas POUSSET
Responsable Technique

07 86 53 38 70

nicolas.pousset-s2e2-ext@st.com

Centre val de loire

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