L’objectif de ce projet est d’identifier de nouveaux matériaux diélectriques et de développer les procédés de dépôt associés pour la réalisation de capacités à très fort facteur de qualité. Ces matériaux doivent présenter de faibles pertes diélectriques et venir remplacer des matériaux plus traditionnels comme l’oxyde de silicium. Ces capacités sont vouées à être intégrées dans des filtres (passe-haut, passe-bas…) pour les besoins de la 5G et de l’IoT (filière IPD, Integrated Passive Devices). La technique de dépôt explorée durant ce projet est l’ALD (Atomic Layer Deposition). Cette méthode permet de contrôler la nature du dépôt à l’échelle atomique. Une étude complète des électrodes, du diélectrique et des interfaces associées pourra ainsi être menée afin d’optimiser les caractéristiques des condensateurs.
Emplois crées : 1
Emplois crées : 1
Domaines d'activité stratégiques
Matériaux et composants pour l'électronique
Référent du projet
07 86 53 38 74
sebastien.desplobain-s2e2-ext@st.com
Centre-Val de Loire
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